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共焦磁控溅射系列
垂直磁控溅射系统
水平磁控溅射系统
In-line溅射系列
Cluster磁控溅射系列
蒸发系统
垂直磁控溅射系列
垂直溅射配置可以最小化颗粒污染,适合靶材产生高颗粒的工艺开发及任何生产环境。
具有高产能、高均匀性及工艺灵活性。
应用于航天、微电子、传感器、汽车、光学及能源等领域。
Run Time:
秒